黄　峰，博士，研究员，博士生导师。招生方向：表界面化学与物理，装备关键部件表面强化。

2003 年在美国阿拉巴马大学获博士学位， 2003-2005 年在阿拉巴马大学从事博士后研究， 2005-2009 年在美国加州硅谷数家与硬盘相关的全球型公司从事薄膜工艺与装备的研发工作。曾主持开发了多项薄膜制备的工艺以及新一代类金钢石镀层制备装备与工艺，并用于相关的磁盘和磁头生产。 2009 年 9 月加盟我所，之前在美国西部数字（ Western Digital ）硬盘公司磁头制造部担任资深主任工程师。已在 J. Appl. Phys., J. Mater. Res., Surf. Coat. Technol., J. Vac. Sci. Technol. A 等学报上发表论文 20 余篇。

　　近期研究方向：气相沉积薄膜技术，重点是薄膜表面、界面的设计与构筑。即如何针对某一特定的用途，通过在纳米尺度上设计有利的薄膜结构（尤其是表面与界面），并开发相应的气相沉积技术（装备结合工艺）来构筑该有利结构，以提高薄膜系统和器件的性能。应用领域既包括传统的表面工程领域，也包括在工研院框架内其它的薄膜技术领域，如太阳能电池以及纳米器件等。

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